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一種利用Gemini型陽離子化合物改善提高噴墨印花影像性能的方法
集萃印花網  2011-07-06 00:00:00
    【集萃網觀察】申請日: 2007年07月23日 公開日: 2008年02月06日 授權公

  申請日: 2007年07月23日

  公開日: 2008年02月06日

  授權公告日: 2009年06月17日

  申請人/專利權人: 江南大學

  申請人地址: 江蘇省無錫市蠡湖大道1800號

  發(fā)明設計人: 王潮霞;房寬峻;付少海;吳桂軍

  專利代理機構: 無錫市大為專利事務所

  代理人: 殷紅梅

  專利類型: 發(fā)明專利

  分類號: D06M13/332;D06B1/00;D06P5/30;D06M101/16;D06M101/10

  申請?zhí)?專利號: 200710024150

  本發(fā)明涉及一種利用Gemini型化合物改善提高噴墨印花影像性能的方法,屬于紡織化學技術領域。特征是:首先去除織物纖維表面的殘留物質,經碳酸鈉與平平加O溶液處理;采用Gemini型陽離子化合物浸漬液浸漬整理或浸軋整理;再經烘干、噴墨印花。采用本發(fā)明的Gemini型季銨鹽整理工藝,能提高紡織品噴墨印花影像性能,提高清晰度、顏色的深度和鮮艷度,而且牢度優(yōu)良,織物具有好的手感;除此之外,對纖維的損傷小、無污水排放、節(jié)約能源以及生產效率高,值得大力推廣。

  來源:中國印花網

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